Estudo sobre o efeito das interconexões de cobre em circuitos de redes neurais baseadas em transistores MOS de tecnologia 16nm

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Estudo sobre o efeito das interconexões de cobre em circuitos de redes neurais baseadas em transistores MOS de tecnologia 16nm

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dc.contributor Universidade Federal de Santa Catarina. pt_BR
dc.contributor.advisor Guimarães, Janaína Gonçalves
dc.contributor.author Ender, Júlia
dc.date.accessioned 2024-07-22T17:17:16Z
dc.date.available 2024-07-22T17:17:16Z
dc.date.issued 2024-07-15
dc.identifier.uri https://repositorio.ufsc.br/handle/123456789/256411
dc.description TCC (graduação) - Universidade Federal de Santa Catarina, Campus Blumenau, Engenharia de Controle e Automação. pt_BR
dc.description.abstract As redes neurais são cruciais para aplicações de inteligência artificial e aprendizado de máquina, devido à sua capacidade de emular o comportamento do cérebro humano e processar grandes volumes de dados de maneira eficiente. No entanto, a implementação dessas redes enfrenta desafios significativos devido aos altos níveis de conectividade exigidos por redes neurais densas, além de questões de dissipação de potência, tempo de atraso, largura de banda e escalabilidade. Neste contexto, o presente trabalho investiga o impacto das interconexões nos parâmetros de desempenho em circuitos de redes neurais baseadas em transistores MOS de tecnologia 16 nm. Para isso, o estudo categoriza as interconexões em locais, intermediárias e globais, examinando seus efeitos específicos no consumo de potência, no atraso e na largura de banda do sistema. A análise visa identificar combinações de interconexões que podem ser inseridas sem comprometer o desempenho do sistema além dos limites estipulados, garantindo assim a eficiência em ambientes baseados em tecnologia de transistores MOS de 16 nm. Esse esforço contribui para o avanço contínuo da computação neuromórfica e suas aplicações práticas. pt_BR
dc.description.abstract Neural networks are crucial for artificial intelligence and machine learning applications due to their ability to emulate human brain behavior and process large volumes of data efficiently. However, implementing these networks faces significant challenges due to the high levels of connectivity required by dense neural networks, as well as issues related to power dissipation, delay, bandwidth, and scalability. In this context, this study investigates the impact of interconnections on the performance parameters of neural network circuits based on 16 nm MOS transistors. To address these challenges, the study categorizes inter- connections into local, intermediate, and global, examining their specific effects on power consumption, delay, and system bandwidth. The analysis aims to identify combinations of interconnections that can be implemented without compromising system performance beyond stipulated limits, thus ensuring efficiency in environments based on 16 nm MOS transistor technology. This effort contributes to the ongoing advancement of neuromorphic computing and its practical applications. pt_BR
dc.format.extent 56 f. pt_BR
dc.language.iso pt_BR pt_BR
dc.publisher Blumenau, SC. pt_BR
dc.rights Open Access. en
dc.subject Interconexões pt_BR
dc.subject Redes Neurais Artificiais pt_BR
dc.subject Cobre pt_BR
dc.subject Transistor MOS pt_BR
dc.subject Interconnections pt_BR
dc.subject Artificial Neural Networks pt_BR
dc.subject Copper pt_BR
dc.subject MOS Transistor pt_BR
dc.title Estudo sobre o efeito das interconexões de cobre em circuitos de redes neurais baseadas em transistores MOS de tecnologia 16nm pt_BR
dc.type TCCgrad pt_BR
dc.contributor.advisor-co Fé, Beatriz Oliveira Câmara da


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