Deposição de filmes finos de TiO2

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Deposição de filmes finos de TiO2

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Title: Deposição de filmes finos de TiO2
Author: Pizzani, Isabela Bianchi
Abstract: No Brasil, há um alto uso de energia solar, em decorrência deste fato, a cada dia mais existem pesquisas sobre como aumentar a eficiência e diminuir o custo de produção de painéis solares. Assim, este trabalho visa analisar e propor uma solução mais eficaz, menos resistiva e mais condutora para a construção de células solares. Os materiais fundamentais para a construção de alguns tipos de células solares são os óxidos transparentes e condutores (TCOs). Seguindo para o desenvolvimento dessa tecnologia, temos os materiais semicondutores, entre eles encontra-se o TiO 2 , que é muito importante pela sua versatilidade. O processo descrito neste documento começa com o corte de uma amostra extraída a partir de uma lâmina para microscopia em vidro comum. Depois, passa por um lixamento feito com um polidor de unha elétrico, afim de aumentar a precisão, evitar rachaduras e economizar tempo no processo. Por fim, a amostra sofre com a última etapa antes de receber o filme, uma limpeza assistida por uma lavadora ultrassônica com os seguintes materiais: acetona, álcool iso-propílico, detergente extran MA 02. Com a placa de vidro pronta e devidamente higienizada, é feita a aplicação do filme de TiO2. Neste trabalho, só serão apresentados filmes puros, ou seja, sem o nióbio, portanto, todos os resultados de medições apresentados não sofreram com a influência da dopagem do metal refratário. Antes da aplicação do filme na amostra, é necessário confeccioná-lo, seguindo a receita proposta pelo orientador da pesquisa, utiliza-se TiO 2 P25, Triton X-100, Polietileno Glicol (PEG 20.000), acetilacetona, água deionizada e água comum. Este processo envolve o ato de maceração que tem seu tempo intercalado com a adição dos materiais descritos no almofariz. Com os filmes prontos e colocados sobre as amostras, utiliza-se da técnica de Spin-Coating para realizar a dispersão do filme. Após a dispersão, o material é levado até um forno onde as amostras são expostas a uma temperatura de 450ºC por cerca de 10 minutos, depois de todo este processo, finalmente é possível começar a medição de resistividade. Foi possível notar que em dias com menos movimento externo, as medições apresentavam resultados melhores, e por isso foi feita uma comparação de resultados com e sem vibrações externas.
Description: Seminário de Iniciação Científica e Tecnológica. Universidade Federal de Santa Catarina. DEPARTAMENTO DE ENGENHARIAS DA MOBILIDADE / DEM/CTJOI
URI: https://repositorio.ufsc.br/handle/123456789/258685
Date: 2024-08-19


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