Aplicação de um sistema magnetron Sputtering para obtenção de filmes anti-corrosivos

Abstract

Para realização deste trabalho foi montado inteiramente em nossos laboratórios um equipamento de deposição Magnetron Sputtering tipo planar. Foram realizados depósitos com alvos de titânio, inconel, inox e alumínio sobre substratos ABNT 4340 e 1020. Realizamos depósitos comparativos, com amostras polarizadas e não polarizadas, e através de fotos em microscópio eletrônico nos certificamos que os filmes obtidos com amostras polarizadas possuem uma densidade mais compacta. Esta informação sobre polarização já é de conhecimento da literatura, e foi determinante para que todos os depósitos seguintes tenham sido realizados com amostras polarizadas. O presente trabalho realiza um estudo comparativo de corrosão entre diversos filmes metálicos. Foram feitas curvas potenciodinâmicas entre os diversos filmes em comparações com o substrato e com o alvo. Através deste estudo se pode comparar potenciais de corrosão dos materiais: inconel, aço inox, titânio e alumínio e estimarmos as conseqüências de fiilmes depositados com estes materiais em meio hostil com NaCl a 3%. Podemos verificar pelas curvas potenciodinâmicas que com apenas 2µ de titânio sobre aço 4340 o potencial de corrosão já se aproxima muito do potencial de titânio puro. Os filmes obtidos com aço inox e inconel mostraram-se muito eficiente em termos de proteção contra corrosão.